大氣等離子清洗機(jī)在運(yùn)行過(guò)程中所有的功能部件都可以控制，在清洗模式下，射頻功率、清洗時(shí)間等都可以通過(guò)觸摸屏設(shè)定，如果需要充入氣體可選擇兩個(gè)氣路并分別設(shè)置充氣流量。清洗過(guò)程中運(yùn)行參數(shù)包括真空度、射頻輸出功率、清洗時(shí)間等都在觸摸屏上顯示。

　　

　　如果你發(fā)現(xiàn)在使用大氣清洗機(jī)清洗效果不好，可以從上述幾個(gè)主要運(yùn)行參數(shù)上做出適當(dāng)調(diào)整。下面，琦凡精密帶大家一起來(lái)了解下幾個(gè)影響等離子清洗效果的主要因素，讓你對(duì)影響大氣等離子清洗機(jī)清洗效果的原因有一個(gè)更加清晰的認(rèn)知。

　　

　　一、功率

　　

　　等離子體的密度和能量與射頻功率成正比關(guān)系，所以在清洗時(shí)應(yīng)該增大清洗功率從而提高清洗的程度以及清洗的效率，但當(dāng)功率過(guò)大，離子溫度會(huì)上升，在高溫條件下金屬基片或其他易被氧化的物質(zhì)會(huì)被氧化從而被破壞，另外不耐高溫零件例如塑料等也會(huì)損壞，因此在清洗之前可以借助模擬合理選擇需要的功率，既要滿足經(jīng)濟(jì)性要求又要保證清洗效果以及清洗的效率。

　　

　　二、時(shí)間

　　

　　通常在保證清洗效果的同時(shí)需要的時(shí)間越少越好以提高清洗的效率，但所用時(shí)間是與各個(gè)參數(shù)之間相互關(guān)聯(lián)的。一般來(lái)說(shuō)，功率越大，所需要清洗的時(shí)間就會(huì)越短，但相應(yīng)的功耗也會(huì)越大，功率的增大會(huì)使反應(yīng)腔體與零件的溫度升高。

　　

　　同時(shí)也會(huì)造成其他的多種問(wèn)題，例如零件被破壞、發(fā)生刻蝕等。因此需要不斷摸索清洗時(shí)間、功率、壓力以及氣體種類(lèi)和配比的關(guān)系選擇一個(gè)清洗工藝。

　　

　　三、溫度

　　

　　在等離子清洗中，工件溫度會(huì)在離子的轟擊作用下變高，所以工件的溫度會(huì)受到射頻功率和清洗時(shí)間的影響。根據(jù)國(guó)內(nèi)外研究表明射頻頻率與溫度成反比；與射頻功率成正比；時(shí)間越長(zhǎng)溫度越高。

　　

　　四、壓強(qiáng)

　　

　　真空腔體內(nèi)的壓強(qiáng)在設(shè)備運(yùn)行的過(guò)程中主要受漏氣率，充氣及抽氣速度影響。針對(duì)不同的材料以及需要去除的污染物不同，所需壓強(qiáng)也是不同的。當(dāng)充入氬氣、氮?dú)獾确欠磻?yīng)性稀有氣體時(shí)，此時(shí)的清洗主要靠離子的物理轟擊作用，此時(shí)可以通過(guò)增大抽速或者減小充氣速度，來(lái)保證真空室在較低的壓力，壓強(qiáng)低可以保證離子具有較高的能量轟擊到基片表面以增強(qiáng)清洗效果。

　　

　　五、均勻性

　　

　　離子均勻性主要受到氣體流動(dòng)和腔體壓力的影響。反應(yīng)氣體的流動(dòng)性會(huì)直接影響到均勻性，在大氣等離子清洗機(jī)主要考量均勻性的設(shè)計(jì)是在充抽氣方面，氣體從真空室前端充入，在真空室中部發(fā)生反應(yīng)，在尾部排出廢氣；壓力也直接影響均勻性，分子的平均自由程隨著壓力的降低而變長(zhǎng)，離子所獲得的能量越大且均勻，因此清洗效果越好。